服务资质：
企业测试商
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感应耦合等离子体刻蚀机
Si材料刻蚀
型号：Plasmalab system 100 ICP180
气源：C4F8、SF6
刻蚀模式：等离子
用途：主要用于Si材料刻蚀。
典型应用：微纳波导，微机电系统（MEMS）、微腔等器件的制作
加工价格
化合物ICP：每小时841元
硅ICP：每小时857元
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