Si材料刻蚀
型号:Plasmalab system 100 ICP180 气源:C4F8、SF6 刻蚀模式:等离子
用途:主要用于Si材料刻蚀。
典型应用:微纳波导,微机电系统(MEMS)、微腔等器件的制作
加工价格
化合物ICP:每小时841元
硅ICP:每小时857元
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